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EU_LAW_INFO	OCLC	Der Cookie wird gespeichert, sobald der Anwender die Verwendung von Cookies zur Kenntnis genommen hat.	10 Jahre nach Erstellung
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GOOGLE_ANALYTICS_INFO	OCLC	Der Cookie wird gesetzt, wenn der Anwender der Verwendung des Tracking Tools Google Analytics zugestimmt hat.	1 Jahr
_ga, _ga_<container-id>	Google Analytics	Der Cookie _ga speichert die Google Analytics-Client-ID zur Unterscheidung von Nutzern, _ga_<container-id> dient der Persistierung des Sitzungsstatus (vorausgesetzt der Anwender hat dem Tool zugestimmt, siehe Cookie GOOGLE_ANALYTICS_INFO).	2 Jahre
_Module_359_Survey_0_, AppearanceSecurityOptions, CSVExportOptions	DNN	Die Cookies werden vom optionalen 3rd Party DNN-Modul Survey verwendet.	bis 31.12.9999, 20 Minuten, 20 Minuten

Cookie	Anbieter	Beschreibung	Speicherdauer
Liste aller Einstellungs-Cookies von OPEN:	OCLC	Die Cookies steuern den aufgeklappt/zugeklappt - Status bei den einzelnen Bereichen innerhalb der Einstellungen sowie die Sichtbarkeit der Header.	Session
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Muster im Rapport

die Grundlagen für Design, Mode und Architektur

Verfasser: Jackson, Paul

Jahr: 2018

Verlag: Bern, Haupt Verlag

Mediengruppe: Buch

verfügbar

Exemplare

Zweigstelle	Mediengruppe	Standorte	Status	Vorbestellungen	Barcode	Frist
Zweigstelle: 00:Zentralbibliothek	Mediengruppe: Buch	Standorte: Rqm Jack / Kunst	Status: Verfügbar	Vorbestellungen: 0	Barcode: M1809923	Frist:

Inhalt

Das Buch gibt eine schrittweise und gut erklärte Einführung in die Erstellung von Mustern, die sich häufig - im Rapport umgesetzt - auf Stoffen oder Fußböden wieder finden. Der Autor erklärt die Gestaltungsprinzipien und gibt konkrete Tipps und Hinweise.

Details

Verfasser: Jackson, Paul

Verfasserangabe: Paul Jackson ; aus dem Englischen übersetzt von Anne Taubert und Martina Simonis

Jahr: 2018

Verlag: Bern, Haupt Verlag

Systematik: Rqm

ISBN: 978-3-258-60182-3

Beschreibung: 159 Seiten : Illustrationen : teilweise schwarz-weiß

Reihe: Haupt gestalten

Beteiligte Personen: Taubert, Anne [Übers.]

Originaltitel: How to make repeat patterns <dt.>

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